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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：描述了被引导向目标的照射点。照射点是从单个照射源生成的。晶片对准传感器中通常普遍的重影反射被减少或消除。描述了第一点反射镜、第二点反射镜和第三点反射镜。第一点反射镜沿着第一轴接收照射，将照射的第一部分反射远离第一轴，并且将照射的第二部分沿着第一轴透射。第二点反射镜接收所反射的照射的第一部分，并且沿着第二轴至少部分地反射照射的第三部分。第三点反射镜沿着第三轴接收并且完全反射照射的第四部分。照射的第二部分、第三部分和第四部分以相对于彼此的不同角度被引导向目标，以创建三个不同的照射点。
主权项：1.一种用于生成照射点的系统，所述照射点被配置为被引导向目标，所述系统包括：第一光学元件，被配置为沿着第一轴从照射源接收照射，将所述照射的第一部分反射远离所述第一轴，并且将所述照射的第二部分沿着所述第一轴透射；以及第二光学元件，被配置为接收所反射的所述照射的所述第一部分，并且沿着第二轴至少部分地反射所述照射的第三部分，所述第二轴的角度与所述第一轴不同；其中所述照射的所述第二部分和所述第三部分在光瞳平面中以相对于彼此的角度被引导向所述目标，以在所述目标上创建两个不同的照射点。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 用于从单个照射源生成多个照射点的系统和方法
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