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申请/专利权人：物元半导体技术(青岛)有限公司
摘要：本发明涉及一种浸没光刻机，包括：激光器，发射激光束；多组透镜，设置在激光器和浸没室之间，用于聚焦和准直激光器发出的激光束；浸没室，设置在透镜与掩膜之间，或设置在掩膜与晶圆之间，其内填充高折射率介质；掩膜，设置在浸没室下方，激光束经过浸没室后照射到掩膜上并形成图形化光束；控制系统，被配置为调节高折射率介质的流动速度和或温度；晶圆，设置在掩膜下方，图形化光束经过掩膜后照射到晶圆上，使晶圆表面的光刻胶发生化学反应或物理变化，形成对应的图案。本发明解决了现有光刻工艺中受限于光刻光源的有效波长、焦深较短，光刻分辨率和精度低的技术问题。
主权项：1.一种浸没光刻机，其特征在于，包括：激光器1，发射激光束；多组透镜2，设置在激光器1和浸没室3之间，用于聚焦和准直激光器1发出的激光束；浸没室3，设置在透镜2与掩膜4之间，或设置在掩膜4与晶圆5之间，其内填充高折射率介质；掩膜4，设置在浸没室3下方，激光束经过浸没室3后照射到掩膜4上并形成图形化光束；控制系统6，被配置为调节高折射率介质的流动速度和或温度；晶圆5，设置在掩膜4下方，图形化光束经过掩膜4后照射到晶圆5上，使晶圆5表面的光刻胶发生化学反应或物理变化，形成对应的图案。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 物元半导体技术(青岛)有限公司 一种浸没光刻机
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