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暴露{113}高能面锐钛矿二氧化钛纳米晶的制备及其对降解CIP的高效应用 

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申请/专利权人:湘潭大学

摘要:本发明公开暴露{113}高能面锐钛矿二氧化钛纳米晶的制备方法。不同于传统高能面调控中采用的热力学调控和动力学调控,本发明通过将“自上而下”和“自下而上”两种策略相结合,得到了形貌均一,晶面比例可调的暴露{113}面的锐钛矿二氧化钛晶体,该晶面从未见诸报道。由于其独特的表面结构,{113}面显示了优异的光催化降解CIP性能和光电化学性能。

主权项:1.暴露高能面的二氧化钛纳米光催化剂的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:1二氧化钛母晶的合成:钛前驱体与锂盐的摩尔比为0.02~4100,将钛前驱体与锂盐溶解于蒸馏水中,在超声仪中处理10~20min后,将溶液转移到反应器中,50~500℃反应2~48h,冷却至室温,倒出上清液,用无水乙醇洗涤3~5次,然后在烘箱中干燥24h,所得固体即为母晶颗粒。2对母晶颗粒的刻蚀:将步骤1所得二氧化钛母晶置于pH为1~7的酸中,超声10~20min后,将溶液转移到反应器中,10~250℃刻蚀1~60h,冷却至室温,用无水乙醇洗涤3~5次,离心收集固体,然后在烘箱中干燥24h,所得固体即为暴露{113}高能面的锐钛矿二氧化钛纳米光催化剂。

全文数据:

权利要求:

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