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申请/专利权人：尼卡光学(天津)有限公司
摘要：本方案公开了一种体全息曲面波导及其制作方法和装置。方法包括曝光步骤，用于干涉曝光位于耦出区和或转折区的全息光敏材料层，曝光步骤包括：根据虚拟影像的像素分布，将参考光调整为对应第i像素的单像素参考光，将信号光调整为对应第i像素的单像素信号光；将单像素参考光耦入曲面波导层，使其在曲面波导层内部进行全反射传播，并在全反射传播过程中照射全息光敏材料层，与此同时，将单像素信号光径直出射在全息光敏材料层上，单像素参考光与单像素信号光在全息光敏材料层上发生干涉，全息光敏材料层记录第i像素对应的干涉条纹；令i＝i+1，重复上述步骤，直至全息光敏材料层记录下所有像素对应的干涉条纹，形成体全息光栅层。
主权项：1.一种制作体全息曲面波导的方法，其特征在于，所述方法包括如下曝光步骤，用于干涉曝光位于耦出区和或转折区的全息光敏材料层：根据虚拟影像的像素分布，将参考光调整为对应第i像素的单像素参考光，将信号光调整为对应第i像素的单像素信号光；将单像素参考光耦入曲面波导层，使其在曲面波导层内部进行全反射传播，并在全反射传播过程中照射全息光敏材料层，与此同时，将单像素信号光径直出射在全息光敏材料层上，单像素参考光与单像素信号光在全息光敏材料层上发生干涉，全息光敏材料层记录第i像素对应的干涉条纹；令i＝i+1，重复上述步骤，直至全息光敏材料层记录下所有像素对应的干涉条纹，形成体全息光栅层。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 尼卡光学(天津)有限公司 体全息曲面波导及其制作方法和装置
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