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目标材料供应设备和方法 

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申请/专利权人:ASML荷兰有限公司

摘要:一种用于供应目标材料的设备,包括储蓄器系统、注入系统以及从注入系统延伸至储蓄器系统的输送系统。储蓄器系统包括与喷嘴供应系统流体连通的储蓄器。注入系统包括限定初级腔的注入室;以及可移除载体,该可移除载体被配置为被容纳在初级腔中。可移除载体限定了次级腔,次级腔被配置为容纳包括目标材料的固体物质。输送系统被配置为提供在注入系统和储蓄器系统之间的流体流动路径。

主权项:1.一种用于供应目标材料的设备,所述设备包括:储蓄器系统,包括与喷嘴供应系统流体连通的储蓄器;注入系统,包括:注入室,限定了初级腔;以及可移除载体,被配置为被容纳在所述初级腔中,所述可移除载体限定了次级腔,所述次级腔被配置为容纳包括所述目标材料的固体物质;以及输送系统,从所述注入系统延伸到所述储蓄器系统,所述输送系统被配置为提供在所述注入系统和所述储蓄器系统之间的流体流动路径。

全文数据:

权利要求:

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