龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：株式会社日立高新技术
摘要：对含有硼的硅膜、多晶硅膜进行等离子体蚀刻的等离子体处理方法使用卤素气体、含有氟的气体、以及三氯化硼气体的混合气体，对含有所述硼的多晶硅膜进行蚀刻。由此，能够在对含有硼的多晶硅膜进行等离子体蚀刻时，实现蚀刻速率的提高，抑制蚀刻不良。
主权项：1.一种等离子体处理方法，对含有硼的硅膜进行等离子体蚀刻，其特征在于，使用卤素气体、含有氟的气体、以及三氯化硼气体的混合气体，对含有所述硼的硅膜进行蚀刻，通过对含有所述硼的硅膜进行蚀刻，形成硬掩模，所述卤素气体是氯气、溴化氢气体、氯化氢气体、以及碘化氢气体中的至少一种气体。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社日立高新技术 等离子体处理方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号