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申请/专利权人：新创电子技术(东莞)有限公司
摘要：本实用新型公开了半导体的碱蚀刻相关技术领域的半导体碱蚀刻的泡洗设备，包括主机架和设置在其上方的蚀刻洗泡箱，所述蚀刻洗泡箱的侧边设置有循环过滤器，所述循环过滤器的进液端通过循环抽液管与所述蚀刻洗泡箱内下部连通，所述循环过滤器的出液端通过循环回液管与所述蚀刻洗泡箱的上部连通。本实用新型的蚀刻洗泡箱配设有循环过滤器，可以对蚀刻液进行循环过滤，有效的去除蚀刻液中的杂质，避免堵塞循环管道，蚀刻洗泡箱内配设有搅拌装置，避免杂质聚集在半导体附近，蚀刻洗泡箱内设置有酸碱度传感器，可以实时监测蚀刻洗泡箱内的碱度情况，碱性降低时，电磁阀打开，及时补充碱液，确保蚀刻液的碱度，进而保证半导体蚀刻的效率。
主权项：1.半导体碱蚀刻的泡洗设备，包括主机架1和设置在其上方的蚀刻洗泡箱2，其特征在于，所述蚀刻洗泡箱2的侧边设置有循环过滤器3，所述循环过滤器3的进液端通过循环抽液管4与所述蚀刻洗泡箱2内下部连通，所述循环过滤器3的出液端通过循环回液管5与所述蚀刻洗泡箱2的上部连通，所述蚀刻洗泡箱2的顶部开设有上开口8，所述上开口8靠近所述循环过滤器3的一侧设置有上支架6，所述上支架6上固定安装有碱液存储箱7，所述蚀刻洗泡箱2内底部安装有搅拌器24，所述搅拌器24的上方设置有辅助支撑网板18，所述辅助支撑网板18上方的空间内设置有半导体放置筐17，所述辅助支撑网板18上方的所述蚀刻洗泡箱2内壁上安装有酸碱度传感器25。
全文数据：
权利要求：
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