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申请/专利权人：东京应化工业株式会社
摘要：采用中空结构体100的制造方法，该中空结构体包括凹部15和将凹部15的开口面封堵的顶板部，使用支承体50与抗蚀剂层30的层叠体80形成侧壁20及顶板部中的至少一者，支承体50由波长365nm的光线透过率为85％以上且照射了波长365nm时的雾度值为1.0％以下的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜构成，抗蚀剂层30由利用负型感光性组合物形成的感光性层形成，进行下述操作：隔着支承体50对抗蚀剂层30进行曝光，将曝光后的层叠体80用含有有机溶剂的显影液显影，形成负型图案。根据该制造方法，在形成中空结构体的侧壁或顶板部时，能够实现图案的光刻特性形状、缺陷减少的进一步提高，能够稳定地制造中空结构体。
主权项：1.一种中空结构体的制造方法，所述中空结构体包括由基板和形成于该基板上的侧壁围成的凹部、及将所述凹部的开口面封堵的顶板部，所述制造方法包括：得到在基板上形成有侧壁的所述凹部的工序；和在所述侧壁上形成所述顶板部，得到中空结构体的工序，其中，使用支承体与抗蚀剂层的层叠体形成所述侧壁及所述顶板部中的至少一者，所述支承体由波长365nm的光线透过率为85％以上且照射了波长365nm时的雾度值为1.0％以下的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜形成，所述抗蚀剂层由利用负型感光性组合物形成的感光性层形成，在使用所述层叠体形成所述侧壁及所述顶板部中的至少一者时，进行下述操作：隔着所述支承体对所述抗蚀剂层进行曝光，用含有有机溶剂的显影液对所述曝光后的层叠体进行显影从而形成负型图案。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京应化工业株式会社 中空结构体的制造方法及层叠体
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