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申请/专利权人：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
摘要：本发明提供一种约瑟夫森隧道结及其制备方法，制备方法包括：于衬底层上图形化叠层结结构得到结区和底电极，于叠层结结构上设置初始绝缘层，平坦化初始绝缘层，形成结接触孔和电极接触孔，并形成引线层。本发明通过平坦化初始绝缘层，有效避免了结区上方接触孔对结尺寸的限制，从而可以实现亚微米级的约瑟夫森隧道结；同时利用势垒保护层的引入，减弱了高临界电流密度的约瑟夫森隧道结中的层间扩散及溅射对势垒层的破坏，从而提高了器件成品率；另外，在平坦化初始绝缘层时，配合图形化同时形成结区、底电极和填充图形，保证了片上图形密度的高度均匀性。
主权项：1.一种约瑟夫森隧道结的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：提供一衬底层；于所述衬底层上设置叠层结结构；所述叠层结结构从下到上依次包括第一超导层、金属层、势垒层、势垒保护层、第二超导层；对所述叠层结结构图形化形成结区和底电极，所述底电极为图形化的第一超导层，所述结区为图形化的第二超导层，所述底电极具有显露在所述金属层、势垒层、势垒保护层和第二超导层以外的连接部；于所述叠层结结构上设置初始绝缘层，所述初始绝缘层的厚度大于所述叠层结结构的厚度；平坦化所述初始绝缘层，得到剩余绝缘层，所述剩余绝缘层的上表面高于所述叠层结结构的上表面；第一次图形化所述剩余绝缘层以形成显露所述结区的结接触孔；第二次图形化所述剩余绝缘层以形成显露所述底电极的连接部的电极接触孔；于所述结接触孔内形成第一引线层，所述电极接触孔内形成第二引线层，所述第一引线层与所述结区形成有效电连接，所述第二引线层与所述底电极形成有效电连接。
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权利要求：
百度查询： 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种约瑟夫森隧道结结构及其制备方法
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