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申请/专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
摘要：一种版图修正方法、存储介质及终端，其中修正方法包括：提供初始版图，初始版图包括若干主图形；将初始版图划分为若干版块区域，相邻版块区域之间具有版块边界；在每个版块区域内形成若干辅助图形；基于版块边界和主图形，在与版块边界邻接的版块区域内形成过滤区域；获取过滤区域内辅助图形的缺失区域；对辅助图形的缺失区域进行修复处理，使得初始版图形成修正版图。在形成辅助图形之后，在各个版块区域的版块边界附近，针对性的搜索辅助图形的缺失区域，进而采用针对性的修复处理，以提升对主图形的修正精度。
主权项：1.一种版图修正方法，其特征在于，包括：提供初始版图，所述初始版图包括若干主图形；将所述初始版图划分为若干版块区域，相邻的所述版块区域之间具有版块边界；在每个所述版块区域内形成若干辅助图形；基于所述版块边界和每块所述版块区域中的所述主图形，在与所述版块边界邻接的所述版块区域内形成过滤区域；获取所述过滤区域内所述辅助图形的缺失区域；对所述辅助图形的缺失区域进行修复处理，使得所述初始版图形成修正版图。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 版图修正方法、存储介质及终端
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