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申请/专利权人：株式会社LG化学
摘要：本申请可以提供化合物、离型组合物、离型层、离型膜和压敏粘合剂膜。本申请可以提供可以形成这样的离型层的化合物，所述离型层能够表现出适当水平的离型剥离力，并且具有优异的与基础膜的结合力和优异的耐溶剂性。此外，本申请可以提供这样的化合物：当已形成离型层时，所述离型层即使在被反复施加至压敏粘合剂层等的情况下也表现出稳定的残留粘附率。本申请还可以提供包含所述化合物的离型组合物和离型层，以及包括所述离型层的离型膜和压敏粘合剂膜。
主权项：1.一种以下式1的平均单元表示的化合物，[式1]R1mR2nSiX4-m-n2其中，R1为自由基产生官能团，R2为氢、异氰酸基烷基、羟基烷氧基、烷氧基、或一价烃基，X为将所述化合物的硅原子彼此连接的连接基团，X为氧原子或下式2的二价连接基团，m为1至3的范围内的数，n为0至2的范围内的数，以及m+n为1至3的范围内的数：[式2]-O-L1-O-其中，L1为亚烷基或烷叉基，以及L1的两侧上的氧原子分别与所述化合物的硅原子直接连接。
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