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版图修正方法、存储介质及终端 

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申请/专利权人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

摘要:一种版图修正方法、存储介质及终端,其中修正方法包括:提供初始版图,所述初始版图包括若干主图形;将所述初始版图划分为若干版块区域,相邻的所述版块区域之间具有版块边界;采用辅助图形的并行计算方法,在每个所述版块区域内形成若干第一辅助图形;基于所述版块边界,在所述版块区域内形成过滤区域,所述过滤区域内存在所述第一辅助图形缺失;去除所述过滤区域内的所述第一辅助图形;在去除所述第一辅助图形之后,采用辅助图形的串行计算方法,在每个所述过滤区域内形成若干第二辅助图形,使得所述初始版图形成修正版图。通过将辅助图形的并行计算方法和辅助图形的串行计算方法进行结合,能够同时兼顾辅助图形的形成效率和分布均匀性。

主权项:1.一种版图修正方法,其特征在于,包括:提供初始版图,所述初始版图包括若干主图形;将所述初始版图划分为若干版块区域,相邻的所述版块区域之间具有版块边界;采用辅助图形的并行计算方法,在每个所述版块区域内形成若干第一辅助图形;基于所述版块边界,在与所述版块边界邻接的所述版块区域内形成过滤区域,所述过滤区域内存在所述第一辅助图形缺失;去除所述过滤区域内的所述第一辅助图形;在去除所述第一辅助图形之后,采用辅助图形的串行计算方法,在每个所述过滤区域内形成若干第二辅助图形,使得所述初始版图形成修正版图。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 版图修正方法、存储介质及终端

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