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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
摘要：本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，良好的感度、对比度，且曝光裕度、边缘粗糙度、尺寸均匀性、焦点深度等光刻性能优异，同时即便在微细图案形成中抗图案崩塌仍强且蚀刻耐性亦优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的鎓盐型单体；包含来自于该鎓盐型单体的重复单元的聚合物；包含该聚合物的化学增幅抗蚀剂组成物；及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为以下式a1表示的鎓盐型单体。
主权项：1.一种鎓盐型单体，以下式a1表示； 式中，n1为0～4的整数；n2为0～4的整数；RA各自独立地为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；R1为卤素原子、或亦可含有杂原子的碳数1～20的烃基；n1≥2时，多个R1亦可互相键结而与它们键结的碳原子一起形成环；LA及LB各自独立地为单键、醚键、酯键、酰胺键、磺酸酯键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键；XL为单键、或亦可含有杂原子的碳数1～40的亚烃基；Q1及Q2各自独立地为氢原子、氟原子、碳数1～6的烃基、或碳数1～6的氟化饱和烃基；Q3及Q4各自独立地为氟原子或碳数1～6的氟化饱和烃基；Z+为鎓阳离子。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法
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