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申请/专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
摘要：本申请涉及一种背照式图像传感器的制备方法及背照式图像传感器，包括：提供基底，基底包括衬底、位于衬底的第一表面上的多个间隔排列的第一隔离结构，以及多个位于衬底内与第一隔离结构对应设置的第二隔离结构；基于第一隔离结构刻蚀衬底，于各第一隔离结构之间的衬底内形成多个沟槽；至少于沟槽的内侧壁及底面形成隔离层；于隔离层上形成感光叠层；其中，隔离层包围感光叠层与衬底接触的表面，且感光叠层的顶面所在的平面位于衬底的第一表面所在的平面与第一隔离结构的顶面所在的平面之间，从而扩大了感光叠层形成的感光区域的空间，增加了感光区域的电子浓度，提高了BSI图像传感器的感光性能。
主权项：1.一种背照式图像传感器的制备方法，其特征在于，包括：提供基底，所述基底包括衬底、位于所述衬底的第一表面上的多个间隔排列的第一隔离结构，以及多个位于所述衬底内与所述第一隔离结构对应设置的第二隔离结构；基于所述第一隔离结构刻蚀所述衬底，于各所述第一隔离结构之间的衬底内形成多个沟槽；至少于所述沟槽的内侧壁及底面形成隔离层；于所述隔离层上形成感光叠层；其中，所述隔离层包围所述感光叠层与所述衬底接触的表面，且所述感光叠层的顶面所在的平面位于所述衬底的第一表面所在的平面与所述第一隔离结构的顶面所在的平面之间。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥晶合集成电路股份有限公司 背照式图像传感器的制备方法及背照式图像传感器
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