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申请/专利权人：光驰半导体技术(上海)有限公司
摘要：本发明涉及一种红外增透减反射膜及其制备方法与应用，属于光学薄膜技术领域，所述制备方法包括如下步骤：1基底表面原子层沉积氧化铝层；2步骤1所得氧化铝层进行浸泡处理，浸泡处理完成后进行烘干，得到所述红外增透减反射膜。本发明采用原子层沉积的方法制备氧化铝层，该方法适用于形状复杂且曲率较大的基底，且能够在形状复杂、曲率较大的基底表面制备厚度均匀的氧化铝膜，降低了物料的生成成本。而浸泡处理环保清洁、简单易控，在烘干过程中利用材料的自组装特性制备生成方向一致的微纳米涂层结构，从而达到增透减反的效果。
主权项：1.一种红外增透减反射膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：1基底表面原子层沉积氧化铝层；2步骤1所得氧化铝层进行浸泡处理，浸泡处理完成后进行烘干，得到所述红外增透减反射膜。
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