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申请/专利权人：合肥清溢光电有限公司
摘要：本发明涉及掩膜版制作，具体涉及一种不同图形密度的图层混排的线宽优化方法，将不同图形密度的图层光刻至同一张测试版上，进行相同时间的显影蚀刻处理，计算各图层对应的初始光刻能量补偿值；将不同图形密度的图层分别光刻至同样的测试版上，根据各图层对应的初始光刻能量补偿值进行光刻能量补偿，并进行相同时间的显影蚀刻处理；对各图层的光刻能量补偿值进行调整，直至满足结束条件，得到各图层对应的最优光刻能量补偿值；根据各图层的图形密度和最优光刻能量补偿值，得到图形密度与最优光刻能量补偿值之间的关系；本发明提供的技术方案能够有效克服现有技术所存在的图层混排时经过显影蚀刻处理后各图层的线宽值偏差较大的缺陷。
主权项：1.一种不同图形密度的图层混排的线宽优化方法，其特征在于：包括以下步骤：S1、将不同图形密度的图层光刻至同一张测试版上，进行相同时间的显影蚀刻处理，计算各图层对应的初始光刻能量补偿值；S2、将不同图形密度的图层分别光刻至同样的测试版上，根据各图层对应的初始光刻能量补偿值进行光刻能量补偿，并进行相同时间的显影蚀刻处理；S3、对各图层的光刻能量补偿值进行调整，重复S2，直至满足结束条件，得到各图层对应的最优光刻能量补偿值；S4、根据各图层的图形密度和最优光刻能量补偿值，得到图形密度与最优光刻能量补偿值之间的关系；S5、对混排图层按照图层进行分割，根据图形密度与最优光刻能量补偿值之间的关系，对各图层进行相同时间、不同光刻能量的显影蚀刻处理。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥清溢光电有限公司 一种不同图形密度的图层混排的线宽优化方法
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