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申请/专利权人：周星工程股份有限公司
摘要：本公开提供一种形成介电膜的方法，包括供应第一源气体的步骤、供应第一吹除气体的步骤、供应第一反应气体的步骤以及供应第二吹除气体的步骤，其中，供应第一源气体的步骤包括将含有选自由镧La、铈Ce、锶Sr、钆Gd、铪Hf和锆Zr组成的组中的至少一种金属的化合物供应至真空沉积设备中，并且其中，供应第一反应气体的步骤包括将选自由O3和H2O组成的组的化合物供应至真空沉积设备中。
主权项：1.一种形成介电膜的方法，所述方法包括：供应第一源气体的步骤；供应第一吹除气体的步骤；供应第一反应气体的步骤；以及供应第二吹除气体的步骤，其中，供应所述第一源气体的所述步骤包括将包含选自由镧La、铈Ce、锶Sr、钆Gd、铪Hf和锆Zr组成的组中的至少一种金属的化合物供应至真空沉积设备中，并且其中，供应所述第一反应气体的所述步骤包括将选自由O3和H2O组成的组的化合物供应至所述真空沉积设备中。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 周星工程股份有限公司 介电膜与电容器以及形成介电膜与电容器的方法
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