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一种用于氮气的离子化装置及镀膜设备 

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申请/专利权人:巨玻固能(苏州)薄膜材料有限公司

摘要:本发明提供一种用于氮气的离子化装置及镀膜设备,涉及氮化物镀膜技术领域。离子化装置包括用于形成含氮气和氢气的混合气体的混合室,混合气体中的氢气和氮气的体积含量比值为范围在1%‑20%中任一值,壳体内形成有反应腔体,壳体的进气口用于向反应腔体内输入混合气体,混合气体的流速为范围在15sccm‑80sccm,射频线圈用于在反应腔体内形成电磁场,电磁场用于电离混合气体以形成氮离子,射频线圈的电流为范围在150mA‑250mA,栅极用于在出气口形成加速电场,加速电场的电压为范围在400V‑600V中任一值,加速电场用于对氮离子加速以形成氮离子射流,混合气体中的氢气的含量根据氮化物的性能参数变化。本发明的离子化装置能够提高氮气的离子化效率,简化离子化装置的结构,降低成本。

主权项:1.一种用于氮气的离子化装置,其特征在于,包括:混合室,用于形成含氮气和氢气的混合气体,所述混合气体中的所述氢气和所述氮气的体积含量比值为范围在1%-20%中任一值;壳体,位于所述混合室的顶部,所述壳体内形成有反应腔体,所述壳体还包括进气口和出气口,所述进气口用于向所述反应腔体内输入所述混合气体,所述混合气体的流速为范围在15sccm-80sccm中任一值;射频线圈,套设于所述壳体的周侧,所述射频线圈用于在所述反应腔体内形成电磁场,所述电磁场用于电离所述混合气体以形成氮离子,所述氮离子用于形成氮化物,所述射频线圈的电流为范围在150mA-250mA中任一值;栅极,位于所述出气口,所述栅极用于在所述出气口形成加速电场,所述加速电场的电压为范围在400V-600V中任一值,所述加速电场用于对所述氮离子加速以形成氮离子射流;其中,所述混合气体中的所述氢气的含量根据所述氮化物的性能参数变化。

全文数据:

权利要求:

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