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申请/专利权人：畅的新材料科技(上海)有限公司
摘要：本申请涉及无机陶瓷粉体的制造领域，具体公开了一种通过PVD实现金属Cs掺杂WO3粉体的方法及设备。一种通过PVD实现金属Cs掺杂WO3粉体的方法通过应用PVD设备实现，PVD设备包括蒸发罐、穿设于蒸发罐内壁的主鞘气管、穿设于蒸发罐内壁的出料管、设置于蒸发罐内部的两个物料发生系统以及穿设于蒸发罐内壁的两个电弧发生器；主鞘气管设置于两个物料发生系统远离出料管的一侧，使得物料发生系统的端口到出料管的气流行程包含在主鞘气管到出料管的气流行程内。本申请的一种通过PVD实现金属Cs掺杂WO3粉体的方法能够得到掺杂效果较好，掺杂均匀性和掺杂比例较高的CsxWO3。
主权项：1.一种PVD设备，其特征在于：包括蒸发罐1、穿设于所述蒸发罐1内壁的主鞘气管12、穿设于所述蒸发罐1内壁的出料管16、设置于所述蒸发罐1内部的两个物料发生系统4以及穿设于所述蒸发罐1内壁的两个电弧发生器7；所述主鞘气管12设置于两个所述物料发生系统4远离所述出料管16的一侧，使得所述物料发生系统4的端口到所述出料管16的气流行程包含在所述主鞘气管12到所述出料管16的气流行程内；所述电弧发生器7与所述蒸发罐1滑移连接，两个所述电弧发生器7分别垂直设置于两个所述物料发生系统4的上侧，所述电弧发生器7中设置有电弧鞘气通道71，所述电弧鞘气通道71包括沿所述电弧发生器7周向开设的环形槽712和多个条形通道711，所述环形槽712设置于所述电弧发生器7靠近所述物料发生系统4一端，所述条形通道711的一端与所述环形槽712连通，所述条形通道711的另一端与所述蒸发罐1外界连通。
全文数据：
权利要求：
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