龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：环球晶圆股份有限公司
摘要：本发明涉及用于处理具有多晶磨光的半导体晶片的方法。一种处理半导体晶片的方法包括在半导体晶片上沉积硅层。所述硅层具有基本均匀的厚度。所述硅层被抛光以平滑化所述硅层，以使得所述厚度在抛光后基本均匀。
主权项：1.一种处理半导体晶片的方法，包括：在所述半导体晶片上沉积硅层，所述硅层具有基本均匀的厚度；在抛光所述硅层之前确定所述半导体晶片的初始晶片轮廓，其中所述初始晶片轮廓具有非平面形状；基于所述初始晶片轮廓的所述非平面形状修整抛光垫；以及使用所述抛光垫抛光所述硅层以平滑化所述硅层，以使得所述厚度在抛光后基本均匀，并且使得所述半导体晶片具有与所述初始晶片轮廓的所述非平面形状相同的抛光后形状。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 环球晶圆股份有限公司 用于处理具有多晶磨光的半导体晶片的方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号