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申请/专利权人：湖北工业大学
摘要：本发明涉及PVDF压电薄膜敏感元件制备技术领域，具体为PVDF压电薄膜敏感元件的转印腐蚀制备方法。作为对PVDF压电薄膜掩模腐蚀法的改进，本发明公开的转印腐蚀方法以定制转印膜中的印刷层作为化学腐蚀过程中的掩模，以转印膜转印方式实现掩模精确定位。本发明公开的转印腐蚀方法解除原有掩模腐蚀法对PVDF压电薄膜敏感元件有效面形状、尺寸设计的限制，使设计自由度得到显著提升。掩膜与PVDF压电薄膜之间均匀、牢靠粘贴且精准定位，使PVDF压电薄膜敏感元件有效面形状、尺寸精度要求得到保证。本发明公开的转印腐蚀方法有利于PVDF压电薄膜掩模腐蚀过程的标准化。应用该方法，在普通实验室条件下即能有效提升PVDF压电薄膜敏感元件成品质量，提高工作效率，促进PVDF压电薄膜传感器相关的研究工作。
主权项：1.PVDF压电薄膜敏感元件的转印腐蚀制备方法，其特征在于：包括以下步骤：S1：粘贴转印膜：在PVDF压电薄膜两侧粘贴转印膜时要注意印刷层的定位，定位的依据是“两片掩模翻转相对粘贴在PVDF压电薄膜两侧，两片掩模与PVDF压电薄膜敏感元件有效面对应的部分对齐，两片掩模与PVDF压电薄膜敏感元件引线对应的部分错开”；S2：压实转印膜：在粘贴完成之后在去掉透明转印膜之前，用干净的软纸或绒布小心地将转印膜抹平、压实，或者夹在上下两片玻璃板之间施加一定的均匀分布的静压力以使印刷层与PVDF压电薄膜紧密粘接；S3：去掉两侧的透明转印膜，将与掩模紧密粘接的PVDF压电薄膜浸没到1％氢氧化钠稀溶液或氢氧化钾稀溶液15秒钟，用金属镊子夹住PVDF压电薄膜边缘轻轻摆动并观察PVDF压电薄膜的腐蚀情况，待未被掩模覆盖部分的金属铝镀层腐蚀完毕，取出PVDF压电薄膜；S4：将腐蚀后的PVDF压电薄膜放入清水中漂洗干净并取出晾干；S5：小心地去除紧密粘接在PVDF压电薄膜上的掩模，并以棉签蘸醋酸溶液或除胶剂小心地去除胶接层以暴露引线电极；S6：根据设计，切割PVDF压电薄膜得到独立的PVDF压电薄膜敏感元件。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 湖北工业大学 PVDF压电薄膜敏感元件的转印腐蚀制备方法
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