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曲面阵列的辐射特性校正方法与系统 

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申请/专利权人:中国人民解放军国防科技大学

摘要:本申请涉及曲面阵列的辐射特性校正方法与系统,方法包括:将曲面阵列上最接近阵列中心的两个阵元确定为校正基点;基于校正基点计算投影后曲面阵列上各阵元的阵元投影位置;投影后曲面阵列上的阵元间距与等长均匀平面阵上的阵元间距相同;获取曲面阵列上各阵元的阵元真实位置;通过计算各阵元真实位置与相应阵元投影位置之差,得到曲面阵列上各阵元的投影位置误差;利用各阵元的投影位置误差对曲面阵列的方向图进行相位补偿处理,得到曲面阵列经辐射特性校正后的方向图。通过采用改进投影法,可实现对任意曲率弯曲的均匀曲面阵列进行相位补偿,得到接近于平面阵列性能的阵列方向图,显著提升了对曲面阵列天线的相位补偿效果。

主权项:1.一种曲面阵列的辐射特性校正方法,其特征在于,包括步骤:将曲面阵列上最接近阵列中心的两个阵元确定为校正基点;基于所述校正基点计算投影后所述曲面阵列上各阵元的阵元投影位置;投影后所述曲面阵列上的阵元间距与等长均匀平面阵上的阵元间距相同;获取所述曲面阵列上各阵元的阵元真实位置;通过计算各所述阵元真实位置与相应所述阵元投影位置之差,得到所述曲面阵列上各阵元的投影位置误差;利用各阵元的所述投影位置误差对所述曲面阵列的方向图进行相位补偿处理,得到所述曲面阵列经辐射特性校正后的方向图。

全文数据:

权利要求:

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