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申请/专利权人：无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司
摘要：本发明属于半导体技术领域，公开了匀气装置及刻蚀设备。匀气装置包括腔盖、加热组件以及匀气组件。腔盖的一侧具有多个供冷却液流动的控温槽，多个控温槽从腔盖的中间向边缘依次间隔分布；加热组件设置于腔盖并能够覆盖多个控温槽以用于对腔盖的不同区域加热；匀气组件设置于腔盖的另一侧并与腔盖围合形成匀气腔，进入匀气腔内的气体经过匀气组件的分散和混合后流向刻蚀设备的反应腔。以此该匀气装置在使用时，能够有效降低温度变化而导致气体不规则流动的可能性，确保气体能够稳定穿过匀气组件而充分发生分散以达到混合均匀的效果，进而就可以有效提高对晶圆的刻蚀质量。
主权项：1.匀气装置，其特征在于，包括：腔盖1，所述腔盖1的一侧具有多个供冷却液流动的控温槽11，多个所述控温槽11从所述腔盖1的中间向边缘依次间隔分布；加热组件2，设置于所述腔盖1，所述加热组件2包括：多个加热环21，用于对所述腔盖1的不同区域加热，多个所述加热环21依次套设分布，每个所述加热环21均能覆盖多个所述控温槽11并封闭所述控温槽11以在所述控温槽11内形成供冷却液流动的流道；以及匀气组件3，设置于所述腔盖1的另一侧并与所述腔盖1围合形成匀气腔，进入所述匀气腔内的气体经过所述匀气组件3的分散和混合后流向刻蚀设备的反应腔。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 无锡邑文微电子科技股份有限公司 江苏邑文微电子科技有限公司 匀气装置及刻蚀设备
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