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申请/专利权人：北京大学
摘要：本申请提供一种用于拉曼成像的纳米柱阵列衬底及其制备方法、检测芯片，涉及生物分子检测技术领域，包括：提供晶圆基底；在晶圆基底的一侧形成原始功能层；在原始功能层背离晶圆基底的一侧形成沿行方向间隔排布的多个第一掩膜图案；基于第一掩膜图案，形成多个第二掩膜图案；去除第一掩膜图案，以第二掩膜图案为掩膜对原始功能层进行第一刻蚀处理，形成沿行方向间隔排布的多个原始功能结构；对原始功能结构进行第二刻蚀处理，形成纳米柱阵列衬底。本申请两次刻蚀处理形成目标功能结构，可以提升光刻形成的目标功能结构的精度，从而通过低精度光刻技术实现高精度的纳米柱阵列衬底的制备，提升纳米柱阵列衬底的制备效率，降低制备成本。
主权项：1.一种用于拉曼成像的纳米柱阵列衬底的制备方法，其特征在于，所述方法包括：提供晶圆基底；在所述晶圆基底的一侧形成原始功能层，所述原始功能层为用于结合目标外泌体的单原子膜层；在所述原始功能层背离所述晶圆基底的一侧形成沿行方向间隔排布的多个第一掩膜图案；基于所述第一掩膜图案，形成沿所述行方向间隔排布的多个第二掩膜图案，所述第二掩膜图案与所述第一掩膜图案的侧壁贴合，且与所述第一掩膜图案同层设置，所述第二掩膜图案的材料为氧化硅；去除所述第一掩膜图案，以所述第二掩膜图案为掩膜对所述原始功能层进行第一刻蚀处理，形成沿所述行方向间隔排布的多个原始功能结构；对所述原始功能结构进行第二刻蚀处理，形成所述纳米柱阵列衬底，所述纳米柱阵列衬底包括沿所述行方向和列方向阵列排布的多个目标功能结构，所述纳米柱阵列衬底用于基于拉曼成像对外泌体进行检测；其中，以所述第二掩膜图案为掩膜对所述原始功能层进行第一刻蚀处理，形成沿所述行方向间隔排布的多个原始功能结构，包括：以所述第二掩膜图案为掩膜对所述原始功能层进行刻蚀，形成多个原始功能子结构；去除所述第二掩膜图案，以所述多个原始功能子结构为掩膜对所述晶圆基底进行浅硅刻蚀，形成所述多个原始功能结构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京大学 一种用于拉曼成像的纳米柱阵列衬底及其制备方法、检测芯片
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