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申请/专利权人：株式会社SK电子
摘要：本发明的课题在于提供良好地修正相移光掩模的相移膜的白缺陷的方法。本发明的光掩模的修正方法，其是具备由相移膜构成的相移图案的光掩模的修正方法，包括：取得修正膜的光学特性的膜厚依赖性的步骤；为了使得从由修正膜构成的图案和相移图案转印的光致抗蚀剂的形状一致，而求出由修正膜构成的图案的修正量的修正膜厚依赖性的步骤；当在光掩模的相移图案中检出白缺陷的情况下，确定所检出的各白缺陷的位置的步骤；对应各白缺陷确定修正膜的膜厚及修正膜的图案的修正量的步骤；以及在包含各白缺陷的区域形成修正膜的步骤。
主权项：1.一种光掩模的修正方法，其是具备由相移膜构成的相移图案的光掩模的修正方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1，取得修正膜的透射率及相移量的膜厚依赖性；步骤S2，为了使得从由所述修正膜构成的图案转印的光致抗蚀剂的形状与从所述相移图案转印的光致抗蚀剂的形状一致，而求出由所述修正膜构成的图案的修正量的所述修正膜的膜厚依赖性；步骤S3，执行所述光掩模的缺陷检查，当在所述相移图案中检出白缺陷的情况下，确定所检出的所述各白缺陷的位置；步骤S4，对应所述各白缺陷确定所述修正膜的膜厚及由所述修正膜构成的图案的所述修正量；以及步骤S5，在包含所述各白缺陷的区域形成修正膜。
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