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申请/专利权人：安徽国芯光刻技术有限公司
摘要：本发明公开了一种激光直写式光刻机曝光聚焦系统，涉及光刻机曝光镜头技术领域，包括光学系统以及可接收光学系统所射出的光束的曝光基板，由所述光学系统射出至曝光基板的光束所组成的曝光光路中设置有光路调节结构。所述光路调节结构包括有组合设置的固定棱镜一、固定棱镜二和调节棱镜。本发明可调整整个光路调节结构的接收光源射入位置的横截面厚度，以调节聚焦位置，得到最佳焦面，实施曝光操作。同时，调节棱镜移动与固定棱镜一、固定棱镜二所产生的上、下间隙，可达到对偏移的光束实施矫正的目的，有效避免折射至电路板上的光束与原有光束的位置存在的偏差现象，提高了聚焦位置、曝光位置的精准度。
主权项：1.一种激光直写式光刻机曝光聚焦系统，包括光学系统4以及可接收光学系统4所射出的光束的曝光基板5，其特征在于：由所述光学系统4射出至曝光基板5的光束所组成的曝光光路中设置有光路调节结构；所述光路调节结构包括有组合设置的固定棱镜一1、固定棱镜二2和调节棱镜3，所述固定棱镜一1、固定棱镜二2沿着横向水平面方向对称分布，所述调节棱镜3位于固定棱镜一1、固定棱镜二2所构成的夹层内侧，且调节棱镜3位于光路外侧的一端设置有驱动结构6，所述驱动结构6可控制调节棱镜3位于夹层内侧左右移动；所述调节棱镜3正对固定棱镜一1、固定棱镜二2的端面均为斜面结构，两个斜面分别为调节斜面一31、调节斜面二32，所述调节斜面一31、调节斜面二32沿着横向水平面对称分布，当所述调节斜面一31、调节斜面二32随着调节棱镜3同步移动时，所述调节斜面一31、调节斜面二32可分别调整与固定棱镜一1、固定棱镜二2的所产生的间隙的宽度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 安徽国芯光刻技术有限公司 一种激光直写式光刻机曝光聚焦系统
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