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申请/专利权人：日月新半导体(昆山)有限公司
摘要：本实用新型涉及晶圆湿蚀刻设备技术领域，具体是一种兼顾质量与产量的湿蚀刻设备，所述内槽设置在外槽的内部，同时所述内槽的两端均设置有转轴，所述转轴的端部均贯穿外槽的侧壁，所述外槽的中部设置有汇水腔，所述汇水腔贯穿外槽，同时所述汇水腔的一端与外槽的内部相连通，所述汇水腔的另一端通过输液管道与喷淋头进行连接。本实用新型通过将汇水腔、内槽和外槽三者进行连通，并通过输液管道对反应液体进行回收重复利用，从而不仅可以减少药液死角金属残留的发生机率，避免药水与水分、空气的接触，延长药水的使用寿命，同时可一次性多个晶圆同步进行反应，提高产量的同时，改善了蚀刻均匀性，降低了底切。
主权项：1.一种兼顾质量与产量的湿蚀刻设备，其特征在于，包括有内槽4和外槽5，所述内槽4设置在外槽5的内部，同时所述内槽4的两端均设置有转轴1，所述转轴1的端部均贯穿外槽5的侧壁，所述外槽5的中部设置有汇水腔3，所述汇水腔3贯穿外槽5，同时所述汇水腔3的一端与外槽5的内部相连通，所述汇水腔3的另一端通过输液管道7与喷淋头6进行连接，所述喷淋头6设置在外槽5的上端，同时所述喷淋头6的侧边设置有机械手臂8，所述机械手臂8设置在内槽4和外槽5的上端。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日月新半导体(昆山)有限公司 兼顾质量与产量的湿蚀刻设备
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