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申请/专利权人：北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司
摘要：本申请提供一种进气组件，应用于半导体设备，包括：分流部，包括中心流道、分别设置在所述中心流道两侧的两个第一旁路流道以及分别设置在所述两个第一旁路流道远离所述中心流道一侧的两个第二旁路流道；以及供气部，所述供气部包括分别与所述中心流道连通的中心供气管路、与所述两个第一旁路流道连通的第一旁路供气管路以及与所述两个第二旁路流道连通的第二旁路供气管路。本申请还提供一种包括所述第一进气组件的工艺腔室。所述进气组件和所述工艺腔室可以对气体沉积在晶圆表面不同区域形成的外延层的厚度进行调控，提高外延层厚度的均匀性。
主权项：1.一种进气组件，应用于半导体设备，其特征在于，包括：分流部，包括中心流道、分别设置在所述中心流道两侧的两个第一旁路流道以及分别设置在所述两个第一旁路流道远离所述中心流道一侧的两个第二旁路流道；以及供气部，所述供气部包括分别与所述中心流道连通的中心供气管路、与所述两个第一旁路流道连通的第一旁路供气管路以及与所述两个第二旁路流道连通的第二旁路供气管路。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司 进气组件和工艺腔室
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