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降低超纳米结晶金刚石膜粗糙度的方法 

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申请/专利权人:应用材料公司;新加坡国立大学

摘要:描述了硬掩模及形成硬掩模的方法。硬掩模具有小于10nm的平均粗糙度,及大于或等于400GPa的模量。方法包含在小于或等于550C的温度下将基板暴露至沉积气体,沉积气体包含掺杂物气体或前驱物固体例如,烷基硼烷化合物或液体例如,环硼氮烷、碳气体及氩气,及从沉积气体点燃等离子体,以形成具有小于10nm的平均粗糙度及大于或等于400GPa的模量的超纳米结晶金刚石膜。

主权项:1.一种形成硬掩模的方法,所述方法包含:在小于或等于550C的温度下,将基板暴露至沉积气体,所述沉积气体包含掺杂物气体、碳气体及氩气;及从所述沉积气体点燃等离子体,以形成具有小于10nm的平均粗糙度及大于或等于400GPa的模量的超纳米结晶金刚石膜。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 应用材料公司 新加坡国立大学 降低超纳米结晶金刚石膜粗糙度的方法

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