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申请/专利权人：珠海市能动科技光学产业有限公司
摘要：本发明公开了一种光致干膜的激光直接成像解析能力评价图形结构，属于印制电路板线路制作技术领域。所述图形结构包括2列S行图形单元，每个图形单元包括水平方向的线阵列图形、竖直方向的线阵列图形和斜向的线阵列图形；其中，S为大于等于5且小于等于10的正整数。在印制电路板线路制作图形转移过程中，使用分辨率测试方法作为光致干膜的激光直接成像解析能力评价方法时，采用本发明的图形结构，可以全面准确地评价其激光直接成像解析能力；相较于传统的线对线、点对点的多次复杂测试可以减少测试次数，提升测试效率，起到节约成本和时间的效果。
主权项：1.一种光致干膜的激光直接成像解析能力评价的图形结构，其特征在于，所述图形结构包括2列S行的图形单元，各所述图形单元分布在相同面积的正方形区域内；每个图形单元包括水平方向的线阵列图形、竖直方向的线阵列图形和斜向的线阵列图形，每个图形单元的水平方向的线阵列图形、竖直方向的线阵列图形和斜向的线阵列图形中各包括M条相互平行的线路，且所述水平方向的线阵列图形的线路一端与竖直方向的线阵列图形的线路的一端在各自的正方形区域的其中一个角落位置汇聚，斜向的线阵列图形位于水平方向的线阵列图形的线路和竖直方向的线阵列图形的线路围成的夹角区域内，且斜向的线阵列图形的线路的一端指向水平方向的线阵列图形和竖直方向的线阵列图形形成的夹角；各图形单元中的斜向的线阵列图形中的线路的斜率为+1或-1，S为大于等于5且小于等于10的正整数。
全文数据：
权利要求：
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