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具有背面源极或漏极触点选择性的集成电路结构 

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申请/专利权人:英特尔公司

摘要:描述了具有背面源极或漏极触点选择性的集成电路结构。在示例中,集成电路结构包括在第一多个水平堆叠的纳米线或鳍状物的端部处的第一外延源极或漏极结构,其中,第一导电源极或漏极触点垂直地在第一外延源极或漏极结构的底部下方并与第一外延源极或漏极结构的底部接触,并且其中,第一硬掩模材料在第一导电源极或漏极触点下方并与第一导电源极或漏极触点接触。第二外延源极或漏极结构在第二多个水平堆叠的纳米线或鳍状物的端部处,其中,第二导电源极或漏极触点垂直地在第二外延源极或漏极结构的底部下方并与第二外延源极或漏极结构的底部接触,并且第二硬掩模材料在第二导电源极或漏极触点的下方并与第二导电源极或漏极触点接触。

主权项:1.一种集成电路结构,包括:第一多个水平堆叠的纳米线,所述第一多个水平堆叠的纳米线与第二多个水平堆叠的纳米线横向间隔开;栅极堆叠体,所述栅极堆叠体在所述第一多个水平堆叠的纳米线和所述第二多个水平堆叠的纳米线上方;第一外延源极或漏极结构,所述第一外延源极或漏极结构在所述第一多个水平堆叠的纳米线的端部处,其中,第一导电源极或漏极触点垂直地在所述第一外延源极或漏极结构的底部下方并与所述第一外延源极或漏极结构的底部接触,并且其中,第一硬掩模材料在所述第一导电源极或漏极触点下方并与所述第一导电源极或漏极触点接触;以及第二外延源极或漏极结构,所述第二外延源极或漏极结构在所述第二多个水平堆叠的纳米线的端部处,其中,第二导电源极或漏极触点垂直地在所述第二外延源极或漏极结构的底部下方并与所述第二外延源极或漏极结构的底部接触,并且第二硬掩模材料在所述第二导电源极或漏极触点下方并与所述第二导电源极或漏极触点接触,所述第二硬掩模材料具有与所述第一硬掩模材料的成分不同的成分。

全文数据:

权利要求:

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