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申请/专利权人：中国科学院光电技术研究所
摘要：本公开提供了一种基于聚合物材料去除基底表面金属膜层的方法及光刻方法，包括：S1，制备超分辨光刻结构，超分辨光刻结构自下而上依次包括基底、反射金属膜层、感光膜层和透射金属膜层，构成金属v介质v金属的等离子腔体成像结构；S2，利用超分辨光刻对等离子腔体成像结构中的感光膜层进行曝光；S3，在透射金属膜层上涂覆高分子聚合物溶液，加热使高分子聚合物溶液固化，形成聚合物薄膜；S4，剥离聚合物薄膜，同时透射金属膜层粘附于聚合物薄膜上被完整剥离，感光膜层和反射金属膜层无损伤。本公开利用高分子聚合物作为粘附层可简单高效地去除基底表面的金属膜层，而不对等离子腔体成像结构产生损伤和破坏，有利于获得高质量超分辨光刻图形。
主权项：1.一种基于聚合物材料去除基底表面金属膜层的方法，其特征在于，包括：S1，制备超分辨光刻结构，所述超分辨光刻结构自下而上依次包括基底（1）、反射金属膜层（2）、感光膜层（3）和透射金属膜层（4），形成金属-介质-金属的等离子腔体成像结构；S2，利用超分辨光刻对所述等离子腔体成像结构中的感光膜层（3）进行曝光；S3，在所述透射金属膜层（4）上涂覆高分子聚合物溶液，加热使所述高分子聚合物溶液固化，形成聚合物薄膜（9）；S4，剥离所述聚合物薄膜（9），同时所述透射金属膜层（4）粘附于所述聚合物薄膜（9）上被完整剥离，所述感光膜层（3）和所述反射金属膜层（2）无损伤；其中，所述高分子聚合物溶液包括：聚乙烯醇和聚乙烯吡咯烷酮的复配溶液；或聚乙烯醇和三聚氰胺的复配溶液；其中，所述聚乙烯醇的聚合度为500~2000，醇解度为87%~89%；所述高分子聚合物溶液根据所述感光膜层（3）与所述透射金属膜层（4）之间的粘结力大小确定。
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百度查询： 中国科学院光电技术研究所 基于聚合物材料去除基底表面金属膜层的方法及光刻方法
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