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申请/专利权人：湖南城市学院

摘要：本发明涉及磁控溅射技术领域，具体涉及一种靶面磁场分布宽度可调的平面磁控溅射靶，包括导磁座以及设置在导磁座上的靶材部件，还包括设置于导磁座以及靶材部件之间的磁体部件，磁体部件包括设置在导磁座上的中心磁体以及若干移动磁体组，移动磁体组包括第一磁体以及设置于第一磁体两侧的第二磁体，第一磁体与导磁座滑动连接，第一磁体可朝靠近或远离中心磁体的方向移动。从而可通过逐步移动外围的移动磁体组来逐渐增加靶材表面的磁场分布宽度，以增加靶材表面的等离子体宽度，从而使得靶材表面刻蚀沟槽的宽度逐渐增加，有效提高平面磁控溅射靶的靶材利用率，改善相关技术中平面磁控溅射靶靶材利用率低的问题。

主权项：1.一种靶面磁场分布宽度可调的平面磁控溅射靶，包括导磁座1以及设置在所述导磁座1上的靶材部件2，其特征在于，还包括设置于所述导磁座1以及所述靶材部件2之间的磁体部件3，所述磁体部件3包括设置在所述导磁座1上的中心磁体31以及若干移动磁体组32，若干所述移动磁体组32将所述中心磁体31包围，所述移动磁体组32包括第一磁体321以及设置于所述第一磁体321两侧的第二磁体322，所述第一磁体321与所述导磁座1滑动连接，所述第一磁体321可朝靠近或远离所述中心磁体31的方向移动；所述移动磁体组32至少有两组，若干所述移动磁体组32在所述导磁座1上呈放射状均匀设置，所述移动磁体组32的所述第二磁体322与相邻所述移动磁体组32的第二磁体322抵接；所述导磁座1开设有若干滑槽11，若干所述滑槽11在所述导磁座1上呈放射状均匀设置，所述滑槽11的数量与所述移动磁体组32的数量相同且一一对应，所述第一磁体321具有滑动部3211，所述第一磁体321通过其滑动部3211与所述滑槽11滑动连接；所述第一磁体321具有用于安装所述第二磁体322的通孔，所述第二磁体322与所述第一磁体321的通孔滑动连接；还包括用于驱动所述移动磁体组32的驱动部件4，所述驱动部件4包括设置于所述导磁座1远离所述磁体部件3一侧的转盘41，所述转盘41转动设置有若干连接组件42，若干连接组件42沿所述转盘41的周向均匀设置，若干所述连接组件42的数量与所述移动磁体组32的数量相同且一一对应，所述连接组件42与所述移动磁体组32转动连接；所述第一磁体321移动同时，所述第二磁体322同步移动。

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百度查询： 湖南城市学院 一种靶面磁场分布宽度可调的平面磁控溅射靶