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申请/专利权人：东领科技装备有限公司
摘要：本实用新型属于薄膜制备技术领域，公开了一种原子层沉积设备用自动密封装置，本实用新型包括真空室、推送机构、真空室底板和两组密封件，真空室的正面开设有开口，真空室底板抵接在真空室的正面，推送机构安装在真空室底板远离真空室的一侧，真空室底板的内部开设有环形凹槽，真空室底板的环形凹槽内部安装有带动密封件进行移动的调节机构，调节机构的前后两侧均开设有卡槽，两组密封件分别安装在调节机构的两组卡槽内部，真空室底板远离真空室的一侧安装有两组限制调节机构移动范围的定位机构，通过调节机构调节移动两组密封件的位置，使得工作人员在更换损坏密封件时无需拆卸移动密封件，从而缩短了工作人员在更换密封件时耗费的时间。
主权项：1.一种原子层沉积设备用自动密封装置，包括真空室1、推送机构2、真空室底板3和两组密封件5，其特征在于：所述真空室1的正面开设有开口，所述真空室底板3抵接在所述真空室1的正面，所述推送机构2安装在所述真空室底板3远离所述真空室1的一侧，所述真空室底板3的内部开设有环形凹槽，所述真空室底板3的环形凹槽内部安装有带动所述密封件5进行移动的调节机构4，所述调节机构4的前后两侧均开设有卡槽，两组所述密封件5分别安装在所述调节机构4的两组卡槽内部，所述真空室底板3远离所述真空室1的一侧安装有两组限制所述调节机构4移动范围的定位机构6。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东领科技装备有限公司 一种原子层沉积设备用自动密封装置
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