龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
摘要：提供化学增幅负型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法。提供能够获得提高了形成图案时的分辨率且改善了LER、分辨率、图案忠实性和剂量裕度的抗蚀图案的化学增幅负型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法。一种化学增幅负型抗蚀剂组合物，其包含A淬灭剂和B基础聚合物，所述A淬灭剂包含下述式A1所示的鎓盐，所述B基础聚合物包含含有下述式B1所示的重复单元的聚合物。
主权项：1.一种化学增幅负型抗蚀剂组合物，其包含A淬灭剂和B基础聚合物，所述A淬灭剂包含下述式A1所示的鎓盐，所述B基础聚合物包含含有下述式B1所示的重复单元的聚合物， 式A1中，X为单键、-O-或-S-；R1和R2各自独立地为氢原子或碳原子数1～10的烃基，该烃基的一部分-CH2-任选被-O-或-C＝O-置换，另外，R1和R2任选相互键合并与它们所键合的碳原子一同形成环；X为单键或-S-时，R3为氢原子或碳原子数1～10的烃基，X为-O-时，R3为氢原子、除酸不稳定基团之外的碳原子数1～10的烃基或酸不稳定基团，该烃基的一部分或全部氢原子任选被卤素原子取代，该烃基的一部分-CH2-任选被-O-或-C＝O-置换，R1和R3任选相互键合并与它们所键合的原子及其间的原子一同形成环，其中，R3为酸不稳定基团之外的基团时，R1～R3中包含的碳原子数的上限为10；Z+为鎓阳离子， 式B1中，a1为0或1；a2为0～2的整数；a3为满足0≤a3≤5+2a2-a4的整数；a4为1～3的整数；RA为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；R11为卤素原子、任选被卤素原子取代的碳原子数1～6的饱和烃基、任选被卤素原子取代的碳原子数1～6的饱和烃氧基、或者任选被卤素原子取代的碳原子数2～8的饱和烃基羰氧基；A1为单键或碳原子数1～10的饱和亚烃基，该饱和亚烃基的-CH2-任选被-O-置换。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 化学增幅负型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号