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申请/专利权人：株式会社V技术
摘要：提供反射型掩模坯料的制造方法，所述反射型掩模坯料具有基板和层叠于所述基板的表面且反射曝光光的反射膜，在所述反射膜形成有剖面凹槽形状的基准标记，其中，所述反射型掩模坯料的制造方法包括：轮廓加工工序，沿着所述基准标记的预定形成区域的轮廓利用小电流聚焦离子束对所述反射膜进行加工；以及整个区域加工工序，利用大电流聚焦离子束对所述预定形成区域的整个区域的所述反射膜进行加工。
主权项：1.一种反射型掩模坯料的制造方法，所述反射型掩模坯料具有基板和层叠于所述基板的表面且反射曝光光的反射膜，在所述反射膜形成有剖面凹槽形状的基准标记，其中，所述反射型掩模坯料的制造方法的特征在于，包括：轮廓加工工序，沿着所述基准标记的预定形成区域的轮廓利用小电流聚焦离子束对所述反射膜进行加工；以及整个区域加工工序，利用大电流聚焦离子束对所述预定形成区域的整个区域的所述反射膜进行加工。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社V技术 反射型掩模坯料的制造方法、反射型掩模坯料以及聚焦离子束加工装置
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