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聚焦环的控温方法、下电极组件及等离子体处理装置 

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申请/专利权人:中微半导体(上海)有限公司

摘要:本发明公开了一种聚焦环的控温方法、下电极组件及等离子体处理装置,所述下电极组件包括基座、绝缘环、聚焦环和设置在绝缘环内的控温组件,所述控温组件包括加热器和导热腔,加热器设置在绝缘环内,导热腔设置在绝缘环内加热器的下方,其内设有可形变部件;当加热器对聚焦环进行加热时,可形变部件与绝缘环或基座之间存在间隙,以减少聚焦环的热量损失,加快聚焦环升温;当加热器停止对聚焦环进行加热时,可形变部件膨胀,与绝缘环和基座均接触,绝缘环通过可形变部件传递热量至基座,以加快聚焦环的热量向基座传导,从而加快聚焦环降温。本发明的上电极组件结构简单,设计和加工难度低,具有较好的控制聚焦环温度的效果。

主权项:1.一种下电极组件,设置在等离子体装置的反应腔内,其特征在于,包括:基座,其包括中央区域,所述中央区域用于承载晶圆;绝缘环,设置在所述基座的中央区域的外围;聚焦环,设置在所述绝缘环的上方;控温组件,设置在所述绝缘环内,用于控制所述聚焦环的温度,所述控温组件包括:加热器,设置在所述绝缘环内;导热腔,设置在所述绝缘环内加热器的下方,其内设有可形变部件;当所述加热器对聚焦环进行加热时,所述可形变部件与所述绝缘环或基座之间存在间隙;当所述加热器停止对聚焦环进行加热时,所述可形变部件膨胀,所述可形变部件与绝缘环和基座均接触,所述绝缘环通过该可形变部件传递热量至基座。

全文数据:

权利要求:

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