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申请/专利权人：科文托尔公司
摘要：本文讨论了用于半导体器件制造环境执行3D光致抗蚀剂轮廓生成的系统和方法。这些方法包括在虚拟制造环境中接收顶部外廓掩模和底部外廓掩模，使用从顶部外廓掩模和底部外廓掩模中提取的密度信息子集创建加载图，使用加载图执行蚀刻操作以生成3D光致抗蚀剂轮廓，并输出蚀刻操作的结果。
主权项：1.一种保存用于执行3D光致抗蚀剂轮廓生成的计算设备可执行指令的非暂时性介质，所述指令在被执行时使配备有至少一个处理器的至少一个计算设备：在虚拟制造环境中接收描绘正在制造的半导体器件结构的顶部的光致抗蚀剂轮廓的顶部外廓掩模和描绘正在制造的半导体器件结构的底部的光致抗蚀剂轮廓的底部外廓掩模；使用从所述顶部外廓掩模和所述底部外廓掩模中提取的密度信息的子集创建加载图；使用所述加载图执行蚀刻操作，以生成用于所述半导体器件结构的3D光致抗蚀剂轮廓；以及输出所述蚀刻操作的结果。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 科文托尔公司 用于执行3D光致抗蚀剂轮廓生成的系统和方法
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