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具有图案叠加以用于辅助叠加信号和准确度的集成电路 

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申请/专利权人:台湾积体电路制造股份有限公司

摘要:本公开涉及具有图案叠加以用于辅助叠加信号和准确度的集成电路。一种集成电路,包括器件区域和叠加标记区域。器件区域包括晶体管的多个堆叠沟道、晶体管的源极漏极区域、源极漏极区域上的第一材料的源极漏极接触部、以及与源极漏极接触部接触的第二材料的导电过孔。叠加标记区域包括第一材料的第一金属结构的第一衍射光栅和第二材料的第二金属结构的第一衍射光栅,该第二金属结构在第一金属结构之上并且相对于第一金属结构偏移。

主权项:1.一种形成集成电路的方法,包括:在集成电路的器件区域中形成晶体管,所述晶体管包括多个堆叠沟道和源极漏极区域;在所述器件区域中利用第一沉积工艺在所述源极漏极区域上形成源极漏极接触部;在所述器件区域中利用第二沉积工艺形成与所述源极漏极接触部接触的导电过孔;在所述集成电路的叠加标记区域中利用所述第一沉积工艺形成第一金属结构的第一衍射光栅;以及在所述叠加标记区域中利用所述第二沉积工艺形成第二金属结构的第二衍射光栅,所述第二金属结构在所述第一金属结构之上并且相对于所述第一金属结构横向偏移。

全文数据:

权利要求:

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