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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供一种对基板进行成膜的装置和对基板进行成膜的方法。配置到用于在真空气氛下向基板的表面供给反应气体而进行成膜处理的处理容器内的升降轴以从下表面支承着基板的载置台的状态以在上下方向上延伸的方式设置，穿过在处理容器设置的贯通口而与外部的升降机构连接起来。壳体覆盖升降轴的周围，盖构件以隔着间隙包围升降轴的方式配置。设置有以如下方式进行引导的引导构件：从吹扫气体供给部供给到壳体的吹扫气体在经由间隙向处理容器流入了之后，从朝向载置台的背面的方向逸散而流动。由此，吹扫气体从载置台逸散而流动，因此，载置台的温度在面内一致，改善成膜处理的面内均匀性。
主权项：1.一种对基板进行成膜的装置，其具备：处理容器，其用于在真空气氛下向基板的表面供给反应气体而进行成膜处理；载置台，其设置于所述处理容器内，用于载置所述基板，并且，设置有用于加热该基板的加热部；升降轴，其以从下表面侧支承着所述载置台的状态以在上下方向上延伸的方式设置，穿过在所述处理容器设置的贯通口而与外部的升降机构连接起来；壳体，其设置于所述处理容器与所述升降机构之间，覆盖所述升降轴的周围；盖构件，其配置成以与所述升降轴的侧周面之间隔着间隙的方式包围该升降轴，以该盖构件的下方侧空间与上方侧空间之间的连通在除了所述间隙以外的部位处被阻止的方式在整周上安装到所述处理容器；吹扫气体供给部，其向所述壳体内供给吹扫气体；以及引导构件，其配置于与朝向所述处理容器内开口的所述间隙的端部相对的位置，形成有以如下方式进行引导的引导面：供给到所述壳体的所述吹扫气体在经由所述间隙向所述处理容器流入了之后，从朝向所述载置台的背面的方向逸散而流动，其中，在将所述升降轴的侧周面与所述盖构件之间的所述间隙称为第1间隙时，所述引导构件是如下环状的构件：以隔着作为在所述引导构件与所述升降轴的侧周面之间形成的间隙的第2间隙而包围该升降轴的方式配置，并且，以所述第2间隙的尺寸比所述第1间隙的尺寸小的方式形成。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 对基板进行成膜的装置和对基板进行成膜的方法
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