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申请/专利权人：光驰科技(上海)有限公司
摘要：本实用新型涉及真空处理技术领域，具体公开了一种挡板机构及真空处理室。挡板机构包括支撑部、驱动部和遮挡部，真空处理源与基板沿第三方向间隔设置，挡板机构设于真空处理源与基板之间；当遮挡部处于遮挡状态时，在第三方向上，遮挡部与基板之间的距离小于真空处理源与基板之间的距离的二分之一；在垂直于第三方向的平面内，挡板机构的遮挡面积大于真空处理源与基板之间通道的截面积的60％；当遮挡部处于收纳状态时，真空处理源发出的物质能够到达基板。本实用新型遮挡部与基板之间的距离小于真空处理源与基板之间的距离的二分之一，以在预处理时有效去除杂质气体，防止残留杂质气体影响真空处理效果。
主权项：1.一种挡板机构，用于阻挡真空处理源7发出的物质到达基板6，其特征在于，所述挡板机构包括支撑部、驱动部和遮挡部，所述支撑部用于支撑驱动部，所述驱动部用于驱动所述遮挡部转变为遮挡状态或收纳状态；所述真空处理源7与所述基板6沿第三方向间隔设置，所述挡板机构设于所述真空处理源7与所述基板6之间；当所述遮挡部处于所述遮挡状态时，在所述第三方向上，所述遮挡部与所述基板6之间的距离小于所述真空处理源7与所述基板6之间的距离的二分之一；在垂直于所述第三方向的平面内，所述挡板机构的遮挡面积大于所述真空处理源7与所述基板6之间通道的截面积的60％；当所述遮挡部处于所述收纳状态时，所述真空处理源7发出的物质能够到达所述基板6。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 光驰科技(上海)有限公司 一种挡板机构及真空处理室
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