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申请/专利权人：深圳市恒运昌真空技术股份有限公司
摘要：本实用新型公开一种等离子体刻蚀装置，包括：壳体组件，所述壳体组件内形成有腔体；扩散板，所述扩散板设置在所述腔体内，将所述腔体分隔成电离腔和刻蚀腔，所述扩散板上设有多个气孔，多个所述气孔连通所述电离腔和所述刻蚀腔；电离组件，所述电离组件包括间隔设于所述电离腔内的第一电极和第二电极；气源，所述气源与所述电离腔连通，用于向所述电离腔内输出气体；调节组件，所述调节组件设置在所述气孔上，用于调节经所述气孔从所述电离腔流向所述刻蚀腔的等离子体流量大小。本实用新型技术方案能提高刻蚀腔中等离子体的均匀性，改善等离子体刻蚀装置刻蚀电路板的均匀性，提高刻蚀质量。
主权项：1.一种等离子体刻蚀装置，其特征在于，包括：壳体组件，所述壳体组件内形成有腔体；扩散板，所述扩散板设置在所述腔体内，将所述腔体分隔成电离腔和刻蚀腔，所述扩散板上设有多个气孔，多个所述气孔连通所述电离腔和所述刻蚀腔；电离组件，所述电离组件包括间隔设于所述电离腔内的第一电极和第二电极；气源，所述气源与所述电离腔连通，用于向所述电离腔内输出气体；调节组件，所述调节组件设置在所述气孔上，用于调节经所述气孔从所述电离腔流向所述刻蚀腔的等离子体流量大小。
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权利要求：
百度查询： 深圳市恒运昌真空技术股份有限公司 等离子体刻蚀装置
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