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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：检查装置包括辐射源、光学系统和检测器。辐射源被配置为产生辐射束。光学系统被配置为接收射束并沿着光轴将射束朝向目标引导，以便产生来自目标的散射辐射。光学系统包括射束移位器。射束移位器包括两个或更多个反射表面。射束移位器被配置为接收沿着光轴的射束，执行射束的反射以移位射束的光轴，在至少第一维度上线性移动以使移位的光轴偏移，并保持射束的光学特性，使得光学特性对于线性移动是不变的。检测器被配置为接收散射辐射并基于散射辐射产生测量信号。
主权项：1.一种检查装置，包括：辐射源，被配置为生成辐射的射束；光学系统，被配置为接收所述射束并且沿着光轴将所述射束朝向目标引导，以便从所述目标产生散射辐射，所述光学系统包括：包括两个或更多个反射表面的射束移位器，其中所述射束移位器被配置为：接收沿着所述光轴的所述射束；对所述射束执行反射，以便使所述射束的所述光轴移位；在至少第一维度上线性地移动以使移位的所述光轴偏移；以及保持所述射束的光学特性，使得所述光学特性对于所述线性移动是不变的；以及检测器，被配置为接收所述散射辐射并且基于所述散射辐射生成测量信号。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 检查装置、线性可移动的射束移位器和方法
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