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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：一种用于化学机械抛光系统的温度控制方法，包括以下步骤：当抛光系统中的部件与抛光系统中的抛光垫分隔开时，将包含蒸汽的气体从孔口引导到部件上以清洁部件或使部件的温度上升到升高的温度。将部件移动到与抛光垫接触，这可以在部件返回到环境温度之前发生。
主权项：1.一种用于化学机械抛光系统的温度控制方法，包括以下步骤：当所述抛光系统中的部件与所述抛光系统中的抛光垫分隔开时，将包含蒸汽的气体从孔口引导到所述部件上以使所述部件的温度上升到升高的温度；以及在所述加热的部件返回到环境温度之前，将所述加热的部件移动到与所述抛光垫接触。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 使用蒸汽用于预热或清洁CMP部件
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