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一种微沟槽射流抛光装置及抛光方法 

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申请/专利权人:天津大学

摘要:本发明公开一种微沟槽射流抛光装置及抛光方法,所述抛光装置包括基座,供液系统,抛光喷嘴和工作台,所述工作台的上表面可拆卸安装一工件固定组件,用于放置待加工的工件,所述工件固定组件对应设置在所述抛光喷嘴的下方;所述工件固定组件包括置物台和固定元件,所述置物台放置设置在所述工作台的上表面,所述置物台的上表面设置有垂直设置的第一凹槽和第二凹槽,其中所述第一凹槽的竖直深度大于所述第二凹槽;所述抛光喷嘴包括毫米级抛光喷嘴和微米级抛光喷嘴,所述固定元件包括盖板和掩膜;当所述抛光喷嘴为微米级抛光喷嘴时,所述固定元件为盖板;当所述抛光喷嘴为毫米级抛光喷嘴时,所述固定元件为掩膜。

主权项:1.一种微沟槽射流抛光装置,包括基座2,供液系统1,抛光喷嘴7和工作台8,紧邻所述基座2的一侧壁设置有所述供液系统1,所述供液系统1用于将含有磨料颗粒的抛光液输送至所述抛光喷嘴7从而冲击待抛光的微沟槽;所述基座2上固定安装五轴运动平台或机械臂,所述抛光喷嘴7安装在所述五轴运动平台或机械臂的端部;所述工作台8放置在基座2上表面;其特征在于,所述工作台8的上表面可拆卸安装一工件固定组件,用于放置待加工的工件,所述工件固定组件对应设置在所述抛光喷嘴7的下方;其中,所述工件固定组件包括置物台9和固定元件,所述置物台9固定设置在所述工作台8的上表面,所述置物台9的上表面设置有垂直设置的第一凹槽和第二凹槽,其中所述第一凹槽的竖直深度大于所述第二凹槽;所述第一凹槽用于将所述待加工工件嵌入其中,所述第二凹槽用于放置所述固定元件,所述固定元件用于在所述置物台上固定所述工件,其上对应设置有孔用于与所述置物台可拆卸连接;所述抛光喷嘴包括毫米级抛光喷嘴和微米级抛光喷嘴,所述固定元件包括盖板和掩膜;当所述抛光喷嘴为微米级抛光喷嘴时,所述固定元件为盖板;当所述抛光喷嘴为毫米级抛光喷嘴时,所述固定元件为掩膜。

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权利要求:

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