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申请/专利权人：华为技术有限公司
摘要：本文涉及半导体制造工艺技术领域，尤其涉及一种装置及其应用。本文所述装置包含具有底部、侧壁、和密封盖的容器以及设置于其中的托盘。本文所述装置可以有利地用于化学气相沉积或原子层沉积应用过程。
主权项：1.一种装置，其特征在于，包括：容器100，所述容器包括容器侧壁101、容器底部102、盖103和内部空间104，所述盖103包括进气通道1031和出气通道1032；托盘200，所述托盘200包括托盘底面201及托盘侧壁202，所述托盘侧壁202设置进气孔203和出气孔204，并且所述托盘底面201包括凹陷区域205；以及，位于托盘侧壁202内侧且相对于所述托盘侧壁202成α角度的扰流部件207，所述α角度为大于或等于0度至小于或等于180度；其中，所述进气通道1031与所述进气孔203提供流体连通，所述进气孔203与所述出气孔204提供流体连通，所述出气孔204与所述出气通道1032提供流体连通，并且在所述进气孔203与所述出气孔204之间连通的流体的至少一部分在通过进气孔203后先接触所述扰流部件207再通过出气孔204。
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