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退火工艺腔室及半导体工艺设备 

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申请/专利权人:北京北方华创微电子装备有限公司

摘要:本申请公开了一种退火工艺腔室及半导体工艺设备,涉及半导体加工技术领域,所公开的退火工艺腔室包括腔室本体和加热组件,腔室本体中设有工艺空间,工艺空间用于对待加热件进行退火工艺;加热组件设于腔室本体的工艺空间内,加热组件包括透光防护罩和加热灯,透光防护罩至少罩设于加热灯面向待加热件的一侧,且透光防护罩包括朝向待加热件的弧形表面。上述的加热灯设置在工艺空间内,并利用透光防护罩对其实现防护,由于透光防护罩的朝向待加热件的表面为弧面,相较于石英平板而言,具有更好的耐压性能,因此可以在满足耐压性能的前提下,适当减小透光防护罩的壁厚,使得透光防护罩能够兼顾耐压性能和透光性能,从而能够提升加热灯的光线透过率,进而提升了加热效率。

主权项:1.一种退火工艺腔室,其特征在于,包括:腔室本体110,所述腔室本体110中设有工艺空间101,所述工艺空间101用于对待加热件进行退火工艺;加热组件120,设于所述腔室本体110的工艺空间101内,所述加热组件120包括透光防护罩和加热灯122,所述透光防护罩至少罩设于所述加热灯122面向所述待加热件的一侧,且所述透光防护罩包括朝向所述待加热件的弧形表面。

全文数据:

权利要求:

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