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申请/专利权人：浙江大学
摘要：本发明公开了一种基于电光高速移相的干涉超分辨光刻系统和方法，该干涉超分辨光刻系统通过分别对两束相位调控后的激光进行偏振方向调控，使得两束激光的偏振方向相同，以保证最高对比例度的干涉条纹，减少干涉条纹图案中的伪影，并通过对偏振方向相同的两束激光束的径向相对位置进行调控，从而能够实现对干涉条纹周期方向的灵活调控；本发明还通过对分束的两束激光的相位差进行调控，从而实现对干涉条纹的位置进行灵活调控；基于对干涉条纹的周期方向和位置的灵活调控，从而能够灵活实现各类微结构表面形貌和排列。
主权项：1.一种基于电光高速移相的干涉超分辨光刻系统，其特征在于，包括：激光输出模块，用于产生和校准激光；偏振分束和相位调控模块，包括偏振分束模块和相位调控模块，所述偏振分束模块用于通过调制校准后激光的偏振方向得到两束不同方向的激光束，所述相位调控模块用于调控两束激光束的相位差；方向与矢量偏振激光调制模块，用于分别对两束相位调控后的激光束进行偏振调控，使得两束激光束的偏振方向相同，然后对偏振方向相同的两束激光束的径向相对位置进行调控；激光合束直写模块，用于将径向相对位置调控后的两束激光束合束后照射到位移台上的光刻胶上，以形成干涉条纹图案；照明监测模块，用于照射干涉条纹图案得到散射的光，并将散射的光进行聚焦得到干涉条纹图案的图像；采集控制模块，用于接收干涉条纹图案的图像，并同步控制相位调控模块、方向与矢量偏振激光调制模块和照明监测模块，以调整干涉条纹图案。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江大学 一种基于电光高速移相的干涉超分辨光刻系统和方法
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