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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：基板处理装置具有：保持部31，其用于保持在表面形成有膜的基板；摄像部33，其拍摄保持于保持部31的所述基板的表面来获取图像数据；分光测定部40，其将来自保持于保持部31的所述基板的表面的光进行分光来获取分光数据；以及控制装置100，其控制保持部31、摄像部33以及分光测定部40。
主权项：1.一种基板处理装置，具有：保持部，其用于保持在表面形成有膜的基板；摄像部，其拍摄保持于所述保持部的所述基板的表面来获取图像数据；分光测定部，其将来自保持于所述保持部的所述基板的表面的光进行分光来获取分光数据；以及控制部，其控制所述保持部、所述摄像部以及所述分光测定部，其中，所述控制部通过使所述保持部沿一个方向移动以：使得所述基板的表面的整体通过所述摄像部的摄像范围，使所述摄像部拍摄所述基板的表面以在所述保持部沿所述一个方向移动的期间获取与所述基板的表面的整体有关的图像数据，并且，使沿所述一个方向通过所述基板的中心部的一条线通过所述分光测定部的分光测定位置，使所述分光测定部在所述保持部沿所述一个方向移动的期间将来自沿所述一条线排列的多个部位的光分别进行分光来获取分光数据，所述控制部基于由所述摄像部拍摄得到的图像数据来进行所述基板的表面的成膜状况的评价，并且基于所述分光数据进行基板的表面上的膜厚的估计，在根据所述图像数据检测到所述基板的表面的缺陷时，不将与该缺陷的区域重复或相邻的部位的所述分光数据用于所述膜厚的估计。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置、基板检查方法和存储介质
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