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超导腔真空密封法兰、射频超导腔及其制备方法 

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申请/专利权人:中国科学院近代物理研究所

摘要:本发明涉及一种超导腔真空密封法兰、射频超导腔及其制备方法,包括如下部件:密封法兰本体,所述密封法兰本体的密封面为刀口密封面;过渡转接,其为管状结构,所述过渡转接的外壁与所述密封法兰本体的环形空腔内壁固定连接,内壁与射频超导腔本体的端部外壁固定连接。该射频超导腔所采用的真空密封法兰,可以显著降低密封结构的制作成本,并提高射频超导腔的真空密封可靠性,提高射频超导腔的装配效率。

主权项:1.一种超导腔真空密封法兰,其特征在于,包括如下部件:密封法兰本体(1),所述密封法兰本体(1)的密封面为刀口密封面;过渡转接(3),其为管状结构,所述过渡转接(3)的外壁与所述密封法兰本体(1)的环形空腔内壁固定连接,内壁与射频超导腔本体(2)的端部外壁固定连接;所述刀口密封面的刀尖圆角半径(4)为0.16~0.2mm;所述密封法兰本体(1)为纯钛密封法兰;所述密封法兰本体(1)的硬度HV10为170~200,所述过渡转接(3)的硬度HV10为100~130;所述过渡转接(3)为铌钛合金过渡转接;所述铌钛合金过渡转接中铌的含量为;所述刀口密封面的刀口处向内倾斜角度(5)为。

全文数据:

权利要求:

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